半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
項目蓝本
该公司厂家为全球排名前沿的半导体行业首测公司厂家,坐落在珠角形地域,大部分来进行高档净化处理器的划区和二极管封装测试英文。会因为当地的生态环保规范要求标准,公司厂家影响颁布废液零排出工作 。工作于2030年发动,202三年6月建起投入运营,净化处理市场规模为200吨/日,总融资约2000W。
废水处理工艺组成成分及由来
某项基本原则片区电镀废水都具有以上性能:
高盐浓硫酸浓度氟化物,关键源于晶圆打磨后的洗多种工序,氟化合物盐浓硫酸浓度达到150-200mg/L
有微米级硅粉科粒,比表面积多在100-500nm相互
有机的负荷率较高,COD在500-800mg/L
含有少量血本属如铅、镉等
电阻率高,一般说来在2000-3000μS/cm
外理工艺的流程的流程
为实现了零污染物制定目标,的工艺开发至关重要考虑的废气归类收废利用和成本收废:
废液类型征集平台
:将含氟生产废水处理工艺与任何生产废水处理工艺在一起搜集
化学式沉淀物中除氟
:利用多级钙盐沉定物法,针对更高效沉定物池
专业氧化的解决
:嗅氧催化反应被氧化挥发难工作设计物
膜萃取体统
:利用DTRO碟管式反渗,原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 公倍数为10倍
化掉析出
:MVR机械厂蒸气再解压缩减压蒸馏器正确处理浓水
干涩系统
:将成果盐干澡后看做化工副服务外售
正确处理的效果
整体运动信息现示:
氟化物除掉率>99.9%,冒水氟亚铁离子<1mg/L
COD总我们要除率>98%,留水COD<20mg/L
水状况共享再利用率>95%,仅发生少量的析出盐
常年可收集高品级循环水约七万之吨
析出盐纯净度提升工业化的级规范,构建影视无害化借助
工程不仅仅构建了污水临“0”排放标准,还凭借资源英文收回塑造了约80千元/年的减半受益。