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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

业务背景图片 该光电器件创造开发区座落在华东中北部中北部,总投入多于200万亿元,重要制造12屏幕尺寸晶圆和一流打包封装產品。开发区日排卸废发电量约5000吨,一般包括多个的工艺焦化化工废水,外理强度大。大型项目需要焦化化工废水外理后到达《手机工业企业水环境破坏物排卸细则》(GB 39731-2020)特点排卸标准值,部位循环率不最低60%。 废气含量及从何而来 含氟生活污水:主要是产自晶圆蚀刻、的清洗程序,氟阴离子浓度值高至200-500mg/L,pH值跌涨大 有机物质废水处理工艺:光刻、定影、去胶等程序行成,COD渗透压300-800mg/L,带有异丙醇、甲苯等有机物质相转移催化剂 含铜废液:真空电镀、化工机械设备增加光泽(CMP)生产工序产生,铜正离子氧化还原电位50-150mg/L 酸碱平衡废渣:环保设备擦拭、气体洗洁等环节所产生,pH值在2-12两者之间上下波动 磨研废气:CMP道工序制造,含带微米级二硫化硅颗粒物 处里技艺流程图 选择"分类整理回收利用+分质处里+进一步净化后"的组合名字制作工艺: 含氟废污工业水处理线 : 两极电学奠定:先加药氯化钙的调节pH至6-7,加个入PAC和PAM二沉池奠定 可溶性被氧化铁树脂吸附:确保安全氟铝离子溶度调至5mg/L一些 工业废水经板框压滤后受托专业加工 充分污废水 加工线 : 微钛电极设备预处里:铁碳微钛电极设备光降解生物大分子式有机化学物 UASB好氧菌表现器:HRT=24h,COD彻底清除率>60% MBR膜生物体作用器:运用PVDF空芯仟维膜,通量15LMH 含铜废污水正确处理线 : 普通机械结晶:加药NaOH改善pH至9-10,演变成Cu(OH)2结晶 阳铝离子置换:多级树脂胶置换抓好铜阳铝离子<0.3mg/L 钛电极回收利用分类处理:部门化工废水经钛电极回收利用分类处理材料铜 结合治理 整体 : 调低池:多样化环境质量用水量,设爆气搅伴 混疑乳浊液:污泥脱水挽回斜板沉淀池剂除掉溶液有机化合物 臭氧杀菌离子液体被氧化:挥发难挥发有机酸物 反融合平台:脱盐率>98%,产水造纸废水处理于产生线 淤泥操作操作系统 : 淤泥高浓池:固态物体酸度从1%加快至3% 抽滤烘干:进入PAM慢慢调理,泥饼水分含量率<75% 超低温干化:环节污泥干化干化至含水量率30%下 进而使用效果 业务建造程序运行后,每项指数公式稳定性高于:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜亚铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。回收水水质检测高于GB/T 19923-2005工农业需要用水规则,回收率65%,次年不浪费的行为最新水的使用量约140万吨。工业废水呈现量限制40%,凶险垃圾处治制造费降低35%。设计自功化因素高,在线免费监测方案动态数据与环保健康部门立即连接wifi。

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