某半导体设备基带芯片打造厂在晶圆制作整个过程中，运行硅烷实施硅概念繁殖，氮氧化合物洗涤剂塔行成高密度含硅生产生产废水。生产生产废水拥有pH下降大（2-11）、硅份量高的的特点，中国传统处置方式易导致硅垢阻塞情况。 废液化学成分及源于 生产废水首要化学成分为： 水解性硅酸盐 ：SiO₂有机废气浓度达1000-1500mg/L 磷酸/氢氧化物钠 ：干洗塔酸碱平衡干洗液残留物 顆粒硅 ：nm级SiO₂固体 痕量砷 ：原科溶物带往 办理新工艺步骤 的创新进行"多级中合+膜过滤清洁+蒸发器结晶体"技术： 1级结合 ：用CaO调接pH至4-5，提取硅酸钙水解，硅剔除率60%。 三级中合 ：加Na₂CO₃将pH提拔至9，进三步发展剩的硅，并接用镁剂除砷。 反渗透膜系统 ：0.02μm淘瓷膜过滤清洁納米级硅顆粒，通量可靠在80LMH。 MVR多效真空泵 ：精提高盐废污水，晶体出Na₂SO₄副物品，水回收利用率超90%。 进而效用 总硅从1500mg/L降低5mg/L下类 砷浓度从0.8mg/L减至0.01mg/L 装置无积灰操作突破2年 年年回收分类处理磷酸钠硫化锌约800吨